瑞利公式

光刻机是半导体制造过程中的关键设备，其技术进步直接关系到芯片性能的提升和制造成本的降低。随着芯片制程的不断缩小，光刻机技术面临着前所未有的挑战。瑞利公式作为光刻技术中的一个核心原理，指导着光刻机技术的不断突破，成为推动半导体行业发展的重要力量。关键词：光刻机、瑞利公式、技术突破、半导体制造、芯片制程、光源波长、数值孔径、工艺因子瑞利公式与光刻机技术进步在半导体制造领域，光刻机的作用是将设计好的电路图案精确地转...