EUV光刻机需求激增:先进制程与扩产的双重驱动 光刻机是半导体制造过程中的关键设备,尤其在先进制程技术中扮演着不可或缺的角色。随着半导体行业对更高集成度、更高性能芯片的需求不断增长,EUV(极紫外光刻)技术因其能够实现更精细的光刻分辨率而成为推动行业发展的重要技术。EUV光刻机市场目前由ASML主导,其技术进步和产能扩张直接影响着全球半导体供应链的发展。关键词:EUV光刻机、先进制程、产能扩张、技术迭代、半导体制造先进制程技术的发展对EUV光刻机的需求随着半导体行业向更小... 发布于 2024-11-19 17:09:55 标签:EUV光刻机