EUV光刻机需求激增：先进制程与扩产的双重驱动

本篇文章的部分核心观点、图表及数据，出自国泰君安于2024年10月11日发布的报告《阿斯麦(ASML.O)首次覆盖报告：算力造铲人，先进制程时代开启新一轮增长》，如需获得原文，请前往文末下载。

光刻机是半导体制造过程中的关键设备，尤其在先进制程技术中扮演着不可或缺的角色。随着半导体行业对更高集成度、更高性能芯片的需求不断增长，EUV（极紫外光刻）技术因其能够实现更精细的光刻分辨率而成为推动行业发展的重要技术。EUV光刻机市场目前由ASML主导，其技术进步和产能扩张直接影响着全球半导体供应链的发展。

关键词：EUV光刻机、先进制程、产能扩张、技术迭代、半导体制造

先进制程技术的发展对EUV光刻机的需求

随着半导体行业向更小的晶体管尺寸迈进，传统的DUV（深紫外光刻）技术已逐渐接近物理极限。EUV光刻技术以其更高的分辨率和更精细的光刻能力，成为实现7纳米及以下制程节点的关键。EUV光刻机的使用，使得芯片设计师能够在硅片上刻画出更小的特征尺寸，从而在相同的芯片面积上集成更多的晶体管，提高芯片的性能和能效。

在先进制程的竞赛中，台积电、三星和英特尔等领先晶圆代工厂都在积极推进EUV技术的应用。例如，台积电在7纳米和5纳米节点上成功采用了EUV技术，并计划在3纳米及更先进制程中进一步增加EUV的使用。据市场研究数据显示，EUV光刻机的出货量随着先进制程的发展而逐年增加，预计到2025年，EUV光刻机的市场需求将达到一个新的高点。

积极扩产推动EUV光刻机需求增长

全球对于高性能计算、5G通信、人工智能等技术的需求不断上升，这些技术对先进制程芯片的依赖性极大。为了满足市场需求，主要的半导体制造商正在积极扩大产能。例如，台积电计划在未来三年内投资超过1000亿美元以增加先进制程的产能，而三星也宣布了类似的大规模投资计划。这些扩产计划将直接推动对EUV光刻机的需求。

ASML作为全球唯一的EUV光刻机供应商，其订单量和积压订单量是衡量市场需求的重要指标。根据ASML的财报数据，其EUV光刻机的订单量在2023年达到了历史新高，且积压订单量持续增长，显示出市场对EUV光刻机的强烈需求。此外，随着High-NA EUV技术的发展，预计新一代EUV光刻机将进一步提高芯片制造的精度和效率，这将进一步推动EUV光刻机的市场需求。

技术迭代与成本效益的平衡

尽管EUV光刻机的需求强劲，但技术迭代和成本效益的平衡仍然是行业面临的挑战。EUV光刻机的高成本是其推广的一个障碍。每台EUV光刻机的价格高达数亿欧元，这对任何芯片制造商来说都是一笔巨大的投资。然而，随着技术的进步和生产规模的扩大，EUV光刻机的单位成本有望逐渐降低。

High-NA EUV光刻机作为新一代技术，其研发和生产成本更高，但其提供的更高的分辨率和生产效率也使得其在特定应用中具有成本效益。据行业分析，High-NA EUV光刻机能够实现的分辨率是现有EUV光刻机的1.7倍，这将使得在更小的芯片面积上集成更多的功能成为可能。尽管初期投资较大，但长期来看，High-NA EUV光刻机将因其更高的生产效率和更低的运营成本而具有更好的经济效益。