清洗设备

热处理及清洗设备是半导体制造过程中不可或缺的关键环节。热处理工艺包括氧化、扩散和退火等，主要在高温炉中进行，对硅片进行高温热处理以形成氧化膜、掺杂杂质元素或修复晶格缺陷。清洗设备则负责去除晶圆表面在制造过程中产生的各种杂质，确保芯片制造质量。随着半导体行业的快速发展，对热处理及清洗设备的需求持续增长，技术进步和市场规模不断扩大。关键词：热处理设备、清洗设备、半导体制造、市场规模、技术进步热处理设备技术革新与市...