成熟制程的新机遇：DUV光刻机在中国大陆的需求激增

本篇文章的部分核心观点、图表及数据，出自国泰君安于2024年10月11日发布的报告《阿斯麦(ASML.O)首次覆盖报告：算力造铲人，先进制程时代开启新一轮增长》，如需获得原文，请前往文末下载。

光刻机是半导体制造过程中的关键设备，用于将电路图案转移到半导体晶圆上。随着半导体行业的快速发展，对光刻机的需求也在不断增长。DUV（深紫外线）光刻机作为成熟制程的主力设备，广泛应用于28nm及以上的成熟制程技术节点，覆盖了中小容量存储芯片、模拟芯片、MCU等多种芯片的生产。随着新能源汽车、5G通信、云计算等技术的快速发展，对使用成熟制程的芯片需求激增，DUV光刻机市场迎来了新的发展机遇。

关键词：DUV光刻机、成熟制程、中国大陆、产能扩张、半导体需求

一、中国大陆成熟制程产能的积极扩展

在全球半导体产业格局中，中国大陆市场扮演着越来越重要的角色。随着国内外市场对成熟制程芯片需求的增加，中国大陆的半导体制造商正在积极扩展其产能。据SEMI统计，预计到2024年，中国大陆将新投产18座新晶圆厂，这些新厂主要聚焦于成熟制程技术，月产能预计将从760万片增长至860万片，产能同比增长13%，这一增速高于全球产能增速的6.4%。预计到2027年，全球成熟制程产能中，中国大陆的产能占比将从2023年的29%提升至33%。

这一产能的积极扩展，无疑为DUV光刻机市场带来了巨大的需求。成熟制程技术在车用、消费电子、服务器及工业自动化等领域的应用广泛，而这些领域正是中国大陆制造业的优势所在。随着中国大陆在全球半导体产业链中的地位日益提升，DUV光刻机作为成熟制程的关键设备，其市场需求有望持续增长。

二、DUV光刻机在成熟制程中的不可替代性

尽管先进制程技术如EUV（极紫外线）光刻机在高端芯片制造中占据重要地位，但对于大多数芯片制造商而言，DUV光刻机仍然是不可或缺的。DUV光刻机以其较高的性价比、成熟的技术和广泛的应用范围，在28nm及以上的成熟制程中占据主导地位。随着全球对半导体芯片需求的增长，特别是对成熟制程芯片的需求，DUV光刻机的市场地位愈发稳固。

DUV光刻机的不可替代性还体现在其技术成熟度和成本效益上。对于许多芯片制造商来说，升级到EUV光刻机不仅需要巨额的资本投入，还需要时间来调整生产流程和技术。而DUV光刻机则能够提供更为经济、快速的生产解决方案，特别是在当前全球供应链紧张、芯片短缺的背景下，DUV光刻机的这一优势更加明显。

三、全球半导体需求增长对DUV光刻机市场的推动

全球半导体需求的增长是推动DUV光刻机市场发展的重要因素。随着5G、物联网、人工智能等新技术的快速发展，对半导体芯片的需求不断攀升。特别是在新能源汽车、智能手机、数据中心等领域，对高性能、低功耗芯片的需求日益增长，这些应用大多基于成熟制程技术，为DUV光刻机市场提供了广阔的市场空间。

全球供应链的紧张局势也促使各国加强本土半导体产能的建设，以减少对外部供应链的依赖。这一趋势进一步推动了对DUV光刻机的需求，因为它们是建立和扩展成熟制程产能的关键设备。在全球范围内，DUV光刻机的市场需求预计将持续增长，特别是在中国大陆等地区的积极产能扩展下，DUV光刻机市场将迎来新一轮的增长期。

总结

DUV光刻机市场在中国大陆的成熟制程产能扩张中扮演着重要角色。随着全球对半导体芯片需求的增长，特别是在新能源汽车、5G通信、云计算等技术领域的快速发展，DUV光刻机的市场需求将持续增长。中国大陆作为全球半导体产业的重要参与者，其产能的积极扩展为DUV光刻机市场提供了巨大的增长潜力。同时，DUV光刻机在成熟制程中的不可替代性，以及全球半导体需求的增长，共同推动了DUV光刻机市场的繁荣。在未来，DUV光刻机市场有望继续保持稳健的增长势头。