全球薄膜沉积设备市场格局:巨头垄断下的国产化机遇

拓荆科技(688072)薄膜沉积设备领军者,技术创新步伐加快
本篇文章的部分核心观点、图表及数据,出自华福证券于2024年10月3日发布的报告《拓荆科技(688072)薄膜沉积设备领军者,技术创新步伐加快》,如需获得原文,请前往文末下载。

薄膜沉积设备是半导体制造过程中的关键设备之一,主要用于在晶圆表面沉积各种薄膜材料,以形成芯片内部的功能层。随着半导体技术的不断进步,薄膜沉积技术的重要性日益凸显。全球薄膜沉积设备市场规模庞大,2022年市场规模达到229亿美元,中国大陆市场规模约为60亿美元。该行业具有高技术壁垒、市场壁垒和客户准入壁垒,目前主要由几家国际巨头企业垄断。

关键词:薄膜沉积设备、半导体制造、市场竞争、国产化率、技术发展

1. 全球市场竞争格局

全球薄膜沉积设备市场由几家国际巨头公司垄断,包括美国的应用材料(AMAT)、泛林半导体(Lam Research)、日本的东京电子(TEL)和迪恩仕(DNS),以及荷兰的ASML和先晶半导体(ASMI)等。这些企业凭借资金、技术、客户资源、品牌等方面的优势,占据了薄膜沉积设备市场的大部分份额。在PVD市场,AMAT是绝对龙头;在CVD市场,AMAT、LAM、TEL三家几乎平分秋色;在ALD市场,实现产业化应用的主要为TEL和ASM。

2. 国产化率提升的机遇与挑战

尽管国际巨头企业在全球薄膜沉积设备市场中占据主导地位,但近年来中国半导体设备国产化速度快速增长,国内企业如北方华创、拓荆科技、中微公司、微导纳米等一批薄膜沉积设备制造商不断涌现。薄膜沉积设备国产化率估计仅5.5%(按设备数量口径),国产化率的提升空间巨大。随着国内企业不断加强技术研发,国产化率有望进一步提升,但同时也面临着技术门槛高、市场竞争激烈的挑战。

3. 技术发展趋势

随着芯片制造工艺的进步及结构复杂化,薄膜设备的需求不断提高。薄膜沉积技术正朝着更高精度、更高效率、更低成本的方向发展。例如,ALD技术因其优异的薄膜均匀性和可控性,正在逐渐取代传统的CVD技术。此外,随着3D NAND技术的发展,薄膜沉积设备的需求将进一步增加。

总结

全球薄膜沉积设备市场由国际巨头企业主导,但随着技术进步和国产化率的提升,中国企业正迎来发展机遇。尽管面临技术门槛和市场竞争的挑战,但随着国内企业技术的不断突破和市场需求的增长,国产化率有望进一步提升,推动全球薄膜沉积设备市场的竞争格局发生变化。

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报告介绍:本报告由华福证券于2024年10月3日发布,共20页,本报告包含了关于拓荆科技,688072,薄膜沉积设备的详细内容,欢迎下载PDF完整版。