功能性湿电子化学品如何引领安集科技新增长？

本篇文章的部分核心观点、图表及数据，出自国金证券于2024年10月20日发布的报告《安集科技(688019)国产替代加速+新品放量，CMP抛光液龙头有望迎来快速增长》，如需获得原文，请前往文末下载。

功能性湿电子化学品是半导体制造过程中不可或缺的材料，它们在光刻、刻蚀、清洗等多个关键工艺环节中发挥着重要作用。随着半导体行业的快速发展，尤其是集成电路和先进封装技术的进步，功能性湿电子化学品的需求持续增长。这些化学品主要包括显影液、剥离液、清洗液、刻蚀液等，它们对提高芯片性能、降低制造成本具有重要意义。全球范围内，湿电子化学品市场规模不断扩大，预计到2029年将达到1203.18百万美元，年复合增长率为10.77%。在中国，这一市场的发展同样迅速，预计2029年市场规模将达到351.69百万美元，全球占比将达到29.23%。

关键词：功能性湿电子化学品、半导体制造、先进封装、市场规模、技术进步

功能性湿电子化学品的市场机遇

功能性湿电子化学品的市场机遇主要来自于半导体行业的快速发展。随着5G、物联网、人工智能等新技术的不断涌现，对高性能芯片的需求日益增长。这些技术对芯片的集成度、性能和功耗提出了更高的要求，推动了先进制程技术的发展。在这一背景下，功能性湿电子化学品作为半导体制造中的关键材料，其市场规模也随之扩大。

在半导体制造过程中，清洗是最为频繁且关键的步骤之一。每道工序后都需要使用清洗液来去除表面的颗粒和化学残留，以确保下一道工序的顺利进行。随着制程技术的进步，对清洗液的要求也越来越高，不仅要求其具有高效的清洗能力，还要求其具有良好的选择性和对设备的低腐蚀性。此外，随着先进封装技术的发展，如3D堆叠和芯片间互连，对功能性湿电子化学品的需求也呈现出新的增长点。

功能性湿电子化学品的技术挑战

尽管市场机遇巨大，但功能性湿电子化学品的生产也面临着技术挑战。这些化学品通常需要具有高纯度、高稳定性和特定的化学性能，这对生产技术提出了严格的要求。例如，高端清洗液需要在不损害芯片的情况下去除极小的颗粒，这要求化学品具有极高的选择性和精确的化学配比。

随着制程技术的不断进步，对功能性湿电子化学品的性能要求也在不断提高。例如，随着芯片制程向更小节点发展，对刻蚀液的选择性、均匀性和蚀刻速率的要求也越来越高。这要求生产企业不断投入研发，以满足市场对高性能化学品的需求。

安集科技在功能性湿电子化学品领域的布局

安集科技作为国内抛光液龙头企业，其在功能性湿电子化学品领域的布局尤为引人注目。公司不仅在传统抛光液领域具有领先地位，而且在功能性湿电子化学品领域也展现出强大的竞争力。安集科技的产品线涵盖了刻蚀后清洗液、光刻胶剥离液、抛光清洗液等多种产品，能够满足不同客户的需求。

公司在功能性湿电子化学品领域的布局体现在其对研发的重视。安集科技拥有一支强大的研发团队，持续投入研发资源，以推动产品技术的升级和创新。公司的研发费用率保持在较高水平，这为其在功能性湿电子化学品领域的技术进步提供了坚实的基础。

安集科技还通过扩建产能来满足市场需求。公司在上海金桥和宁波北仑两大生产基地的基础上，计划投资建设上海化工区生产基地，并在宁波北仑生产基地新增功能性湿电子化学品产能。这些产能的扩张将进一步提升公司的市场竞争力，满足日益增长的市场需求。

总结

功能性湿电子化学品作为半导体制造中的关键材料，其市场规模随着技术进步和新应用的出现而不断扩大。安集科技凭借其在抛光液领域的领先地位和技术积累，积极布局功能性湿电子化学品领域，通过加大研发投入和扩建产能，有望在这一领域实现新的增长。随着半导体行业的持续发展，功能性湿电子化学品将成为安集科技未来发展的重要驱动力。