光刻机市场未来走向何方：晶圆扩产下的增长引擎

本篇文章的部分核心观点、图表及数据，出自东吴证券于2024年10月16日发布的报告《半导体设备行业专题报告：详解光刻巨人ASML成功之奥妙》，如需获得原文，请前往文末下载。

光刻机作为半导体制造过程中的关键设备，承担着将电路图案从掩模版转移到晶圆上的重要任务。随着半导体行业的快速发展，特别是集成电路制程的不断微缩，光刻机技术的进步成为推动行业前行的核心动力。全球光刻机市场长期以来由少数几家企业主导，形成了“一超双强”的竞争格局，其中ASML以其领先的技术和市场地位占据绝对优势，而Nikon和Canon则在特定领域保持竞争力。本文将从光刻机市场的格局稳定性、晶圆扩产对光刻机需求的拉动作用，以及技术进步对市场的影响三个角度进行深入分析。

关键词：光刻机市场、晶圆扩产、技术迭代、市场需求增长

一超双强格局的稳定性

光刻机市场的“一超双强”格局由来已久，ASML以其在EUV光刻机市场的绝对垄断地位，成为全球光刻机市场的超级巨头。据东吴证券研究报告，2023年全球IC光刻机市场规模接近260亿美元，ASML在DUV和EUV光刻机市场均占据主导地位，特别是EUV光刻机市占率达到100%。Nikon和Canon虽然在高端光刻机市场竞争力较弱，但在DUV光刻机市场仍有一定的市场份额，尤其在I-line和KrF光刻机领域，Canon和Nikon分别占据主导地位。

这种格局的稳定性得益于各企业在技术、市场和客户关系方面的深厚积累。ASML通过不断的技术创新和收购上游供应商，形成了强大的技术壁垒，同时与全球头部晶圆厂客户深度合作，构筑起完善而牢固的生态网络。Nikon和Canon虽然在高端市场难以与ASML竞争，但在中低端市场仍有其稳定的客户基础和市场份额。这种稳定的市场格局，为光刻机技术的持续进步和行业健康发展提供了良好的环境。

晶圆扩产对光刻机需求的拉动作用

随着全球半导体行业的快速发展，晶圆厂的扩产成为拉动光刻机需求增长的主要动力。据ASML预计，2025年、2030年全球晶圆需求将分别达到1280万片/月、1660万片/月（等效12英寸），2020-2030年成熟制程和先进制程晶圆需求CAGR分别为6%和10%。这一需求的增长，直接推动了光刻机特别是中高端光刻机的需求增长。

晶圆厂的扩产不仅增加了对光刻机的数量需求，也对光刻机的性能提出了更高的要求。随着制程节点的不断微缩，对光刻机的分辨率、套刻精度和产能等技术指标提出了更高的标准。这促使光刻机制造商不断进行技术创新，以满足市场的需求。例如，ASML正在研发的High-NA EUV光刻机，就是为了满足更先进制程的需求。晶圆厂的扩产，不仅为光刻机市场带来了直接的需求增长，也推动了光刻技术的不断进步。

技术进步对市场的影响

技术进步是光刻机市场发展的另一大驱动力。光刻机技术的进步主要围绕分辨率、套刻精度和产能三大关键指标展开。随着光源波长的不断缩短、数值孔径的不断提升以及工艺因子的不断优化，光刻机的技术水平不断提高，为半导体制程的微缩提供了可能。

ASML的成功之路离不开技术创新。从PAS 5500光刻机的模块化设计，到双工件台技术的推出，再到浸没式光刻技术的采纳，以及EUV光刻机的垄断，ASML的每一次技术突破都为其市场地位的巩固和提升提供了强有力的支撑。技术进步不仅提升了光刻机的性能，也为光刻机市场带来了新的发展机遇。

技术进步也带来了市场竞争格局的变化。随着技术的不断发展，市场对光刻机的性能要求越来越高，这使得技术落后的企业越来越难以在市场中生存。ASML之所以能够在全球光刻机市场中占据主导地位，正是因为其在技术创新上的不断投入和突破。技术进步，使得光刻机市场的竞争更加激烈，也更加依赖于技术创新。

总结

光刻机市场的发展受到多种因素的影响，其中“一超双强”的市场格局稳定性、晶圆扩产对需求的拉动作用以及技术进步对市场的影响是三个关键因素。ASML凭借其技术创新和市场领导地位，在全球光刻机市场中占据主导。随着全球晶圆需求的增长，光刻机市场的需求将持续增长，同时技术的进步也为市场带来了新的发展机遇。未来，光刻机市场的竞争将更加激烈，技术创新将成为企业竞争的关键。